Lithographie, derzeitiger Stand?

[Chemiker]

Bei welcher Wellenlänge ist man zur Zeit eigentlich angekommen? 157 nm ist wohl schon längst Schnee von gestern, oder?

Mit google finde ich nur recht alten Kram...

[Triskaine]

Derzeitiger Stand ist 193 nm ArF und das schon seit Jahren, die Entwicklung von 157 nm wurde aufgegeben. Der designierte Nachfolger ist EUV Lithographie, die allerdings immer noch nicht produktionsreif ist.

[Spasstiger]

Globalfoundries plant, 2012 EUVL-Anlagen (13,5 nm Lichtwellenlänge) zu installieren: http://www.computerbase.de/news/allgemein/forschung/2011/januar/globalfoundries-setzt-auf-naechste-lithografie-generation/.
Massenfertigung 2014/2015.

[Chemiker]

Danke, sehr interessant. :)

157 nm hat man also fallengelassen. Naja, dann eben nicht. ;)

[[teddy]popel]

157nm?
nur mal kurz zum verständniss, sollte die wellenlänge der strahlung nicht geringer sein als die herzustellende strukturbreite?

[Henroldus]

popel;8579935']157nm?
nur mal kurz zum verständniss, sollte die wellenlänge der strahlung nicht geringer sein als die herzustellende strukturbreite?
eigentlich schon, wird aber seit einigen Generationen mit vielen Tricks umgangen.

[SavageX]

popel;8579935']157nm?
nur mal kurz zum verständniss, sollte die wellenlänge der strahlung nicht geringer sein als die herzustellende strukturbreite?

Heutzutage wird Laser-Interferenz-Lithographie angewendet, d.h. die Masken stellen nicht mehr direkt die gewünschte Struktur dar, sondern sind so beschaffen, dass sie Interferenzmuster erzeugen, die dann "zufällig" dem Zeug entsprechen, was man eigentlich haben will. Man rechnet also die Interferenz "rückwärts", und fertigt hieraus die Masken.