Diskussion zu: Hardware- und Nachrichten-Links des 25. Juli 2017

[Leonidas]

Link zur News:
https://www.3dcenter.org/news/hardware-und-nachrichten-links-des-25-juli-2017

[Gast]

In der Beurteilung der Prozessoren mit immer mehr CPU Kernen zeigt sich mal wieder wie schlecht die "Fachjornalismus" ist. Statt sich mal Gedanken zu machen, wie man die nötigen Information herausfinden kann, soll jemand anderes diese Arbeit übernehmen. Statt dessen versuchen immer weiter mit den ewig gleichen und mittlerweile überholten Methoden weitermachen.

Mittlerweile kann man genauso du die Herstellerangaben richten. Die sind auch nicht schlechter als das was als Test durchgeht.

Bei einem 12 Kerner muss man halt Umdenken und mit den geänderten Bedingungen karkommen. Es gibt von 2 Kerner bis 12 Kernen (nur gerade Anzahl) eine menge an Prozessoren. Ebenso groß ist die Bandbreite der Spiele und Programmen diese Anzahl an Kernen zu unterstützen. Die nötige Untersuchungen sind nicht schwer. Man braucht nur etwas Sachverstand, Zeit und Cleverness. Es ist traurig das die Fachjournalisten nicht über die üblichen von gewissen Herstellern vorgegeben Benchmarks herauskommen.
Dann könnte der geneigt Leser zumindest abschätzen wieviel Kerne oder Kernleistung er benötigt.

Die aktuellen Prozessoren ist keine Meisterwerke mit einer Menge an Einstellungen. Vorallen das Thema Stromspareinstellungen und Begrenzung der Strommenge/fps wird nur stiefmütterlich betrachtet. Aber wenn man nicht wieder zu exorbitanten Kühlmaßnahmen zurückkehren möchte muss man sich zwangsweise mit diesen Themen befassen.

[cat]

Zen 2 nutzt wohl eher quad-patterning an einigen Stellen, aber noch kein EUV.

In 7nm it requires even deeper cooperation [because] we have quad patterning on certain critical levels [where] you need almost perfect communications between the design teams,” he said.

Papermaster expects foundries will begin to use extreme ultraviolet (EUV) lithography starting in 2019 to reduce the need for quad patterning. EUV “could bring a substantial reduction in total masks and thus lower costs and shorten cycle time for new designs,” he said.

unterm bild vom cto
http://www.eetimes.com/document.asp?doc_id=1332049&page_number=1